Letos prihaja Canonova konkurenca ASML-ju
Canon je oktobra predstavil tehnologijo nanoimprint za izdelavo čipov, s katero želi konkurirati ASML-jevi litografiji z ekstremnim UV (EUV). Letos bodo prve stroje za proizvodnjo čipov že začeli prodajati, so sporočili iz Japonske. Vodja industrijskega dela Canona Hiroaki Takeishi je dejal, da bo tehnologija nared letos ali najpozneje v začetku prihodnjega leta.
Razvijali so jo že 15 let, sedaj pa naj bi bila končno pripravljena za komercialno uporabo. Glavna prednost bo cena, ki bo Canonovih besedah velikostni razred nižja kot pri ASML-ju. Slednji namreč na področju EUV, ki se uporablja za proizvodnjo najmanjših čipov, sploh nima konkurence. A nizozemski stroji so dragi – cene presegajo 150 milijonov dolarjev – in z dolgimi dobavnimi roki. Canon ponuja konkurenčno tehnologijo.
- ASML ostaja vladar, a Canon prevzema vlogo izzivalca
Nič ne kaže, da bo Canonova tehnologija zamenjala litografijo z EUV, kar priznavajo tudi Japonci. Če bi bila tehnologija superiorna, bi se to že zdavnaj zgodilo, saj bi jo razvijali tudi drugod. Namesto tega želi Canon sobivati z EUV, saj bo nanoimprint uporaben zlasti tam, kjer bo cena ključna, čipi z nekoliko večjimi litografijami. Trenutno je Canon dosegel 5 nm, dolgoročno pa želijo priti do 2 nm.
Takeishi dodaja, da so rešili ključno težavo, in sicer frekvenco defektov. S tem so imeli nemalo težav, saj je tehnologija, ki uporablja fizični stik, avtomatično bolj tvegana od litografije s fotopremazi in jedkanjem s svetlobo. Predvsem Canon računa na kitajski trg, kamor ASML ne sme več prodajati. Za Canon te ameriške omejitve ni – ASML ima ameriške komponente – se bo pa moral prebiti skozi japonske sankcije.
