Kitajska bo kmalu obvladala litografijo EUV za najzmogljivejše čipe
Kitajski Huawei po neuradnih poročil že preizkuša litografijo v ekstremnem delu UV (EUV), ki je potrebna za izdelavo najzmogljivejših čipov najmanjših velikosti. Doslej je bil ASML edini proizvajalec naprav za proizvodnjo takšnih čipov, ki pa jih zaradi ameriških sankcij ni smel prodajati na Kitajsko. Zato so se Kitajci odločili, da tehnologijo razvijejo neodvisno.
Viri so sicer trhli, saj imamo večinoma trditve in posnetke s TikToka in X-a, a na njih vidimo kitajske stroje z oznako EUV. Na Kitajskem je več proizvajalcev čipov, denimo SMIC in Huawei, ki pa sta v proizvodnji omejena zaradi ameriških sankcij.
EUV omogoča izdelavo čipov z veliko natančnostjo, saj za fotojedkanje uporablja svetlobo z valovno dolžino 13,5 nm. To je nujno za nove čipe, ki nastajajo v 3-nm ali 4-nm tehnologiji. Kitajski SMIC brez EUV trenutno zmore proizvajati 7-nm čipe, za kar uporabljajo globoki UV s 193 nm in večkratno obsevanje substrata (multi-patterning).
Kaj točno razvijajo Kitajci in do kam jim je uspelo, še ne vemo. Napis na napravi se prevede v »nastavitev leč in interferometer za litografijo EUV«. Po nepreverjenih podatkih naj bi prve naprave za EUV začeli proizvajati prihodnje leto.
