Intel napoveduje vezja s taktom 10 GHz
Intel razvija nov proizvodni postopek, ki bo omogočil še precej hitrejša vezja, kot doslej. Postopek EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) bodo uporabljali za tiskanje izjemno majhnih integriranih vezij, kar bo omogočilo povečanje gostote tranzistorjev in izboljšanje lastnosti vezij. Foto-litografija je postopek pri izdelavi integriranih vezij, ko se na polprevodniški rezini s pomočjo mask dodajajo ali odvzemajo različne plasti, nov postopek pa omogoča uporabo svetlobe z manjšo valovno dolžino. S pomočjo nove tehnologije naj bi vezja delovala pri taktih nad 10 GHz, dosedanje tehnologije pa omogočajo takte do 2,4 GHz. To naj bi tudi omogočilo nadaljnji razvoj vezij v skladu z Mooreovim zakonom. Gordon Moore, eden od soustanoviteljev družbe Intel, je namreč nekoč izjavil, da se z razvojem tehnologije gostota tranzistorjev v vezjih vsaki dve leti podvoji. Prva vezja izdelana z napravo
