MIT razvija čipe brez fotolitografije
Raziskovalci univerze Massachusetts iInstitute of Technology (MIT) so naredili pomemben korak na področju tehnologije za proizvodnjo elektronskih čipov. Klasično fotolitografijo so nadomestili z novim postopkom, ki samodejno razporeja molekule materialov na ustrezno mesto v vezju. S tem si obetajo izdelavo tehnologije, ki bo lahko proizvajalca bistveno manjša in varčnejša elektronska vezja, kot s sedanjimi uporabljenimi postopki.
Nov dosežek je hkrati upanje za celotno elektronsko industrijo, ki praktično enak proizvodni postopek fotolitografije uporablja že skoraj 50 let in se počasi bliža fizičnim in tehnološkim omejitvam postopka. Vezja namreč postajajo že tako majhna, da je z običajnim postopkom, pri katerem s posebno svetlobo osvetljujejo in utrjujejo elektronske povezave, preprosto ne morejo narediti dovolj zanesljivih povezav. Povezave postajajo namreč manjše od valovne dolžine svetlobe, ki je uporabljena pri litografiji.
Nov postopek uporablja poseben tip litografije z elektronskim snopom, ki na vezju naredi mikroskopske vzorce oziroma točke, na katere nato nanesejo posebne verige iz polimer, ki se samodejno postavijo na začrtani položaj in povežejo v uporabne vzorce. Uporabljena sta dva tipa polimerov, pri katerih tiste za povezave vsebujejo silicij, ostale pa se razkrojijo pri žarčenju s plazmo (elektronsko nabitem plinu). Kar ostane je elektronsko vezje z dimenzijami, ki so nekaj velikostnih razredov manjše od današnjih. Postopek je za zdaj uspešno prestal prototipno fazo, sledi pa najbrž ne preveč kratek proces spremembe v industrijsko uporabno tehniko.
